KRI 考夫曼離子源電源與控制器

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
離子源     霍爾離子源                                           射頻離子源                       考夫曼離子源                              自動控制器

KRI 考夫曼離子源自動控制器 Power Supply and Control

考夫曼離子源 Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器有多個模組組成, 模組的特性取決于功率, 頻率, 電壓, 電流和控制方式.

KRI 霍爾離子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

美國考夫曼公司霍爾離子源控制器完全替代 Veeco Commonwealth 控制器, 不需更改任何鍍膜機計算機程序及相關設定即可直接運做!

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